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電子級硫酸行業特點

時間:2020-12-12 瀏覽:70次
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  電子級硫酸主要應用于電子硅晶片生產過程的清洗和蝕刻。

  硅圓片在加工過程中,常常會被不同的雜質所沾污,可引起大規模集成電路產率下降50%左右。硅圓片上不溶性固體顆?;蚪饘匐x子可能在微細電路之間導電,使之短路,幾個金屬離子或灰塵足以使線寬較小的大規模集成電路報廢。

  Na、Ca等堿金屬雜質會融進氧化膜中,導致耐絕緣電壓下降。當硅圓片表面附著有Cu、Fe、Cr、Ag等重金屬雜質時,會使P—N結耐電壓降低,影響大規模集成電路電性能。硼、磷、砷等雜質離子會影響擴散劑的擴散效果,塵埃顆粒會造成光刻缺陷,氧化層不平整,影響制版質量和等離子蝕刻工藝。

  為了獲得高質量、高產率的集成電路芯片,必須除去各種沾污物,這就需要使用非常純凈的化學試劑來清洗硅圓片,硫酸和過氧化氫按比例組成有強氧化性的SPM清洗液,在120~150℃下對硅片進行清洗時,可將金屬氧化后溶于溶液中,并能把有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻及終的去膠,借助于化學反應從硅圓片的表面除去固體物質,導致固體表面全部或局部溶解。


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